【簡介：】現(xiàn)在開始全部換華為的不遲，不僅會迅速堵住漏洞和后門，還可理所當然幫華為渡過難關。全力支持國家用華為的電腦立即更換聯(lián)想的電腦。
應該立即換成華為。
因為，如今的聯(lián)想正在經(jīng)

現(xiàn)在開始全部換華為的不遲，不僅會迅速堵住漏洞和后門，還可理所當然幫華為渡過難關。全力支持國家用華為的電腦立即更換聯(lián)想的電腦。

應該立即換成華為。

因為，如今的聯(lián)想正在經(jīng)歷著各種是與非，并且其主要領導人是姓社還是姓資，正在等待答案。政府所使用的辦公設備是國家政策法規(guī)上傳下達的關鍵辦公用品，更是關聯(lián)到國家安全信息，民眾公共安全信息的保密性、完整性的國家最高機密。所以應該立即更換。

華為P60或?qū)⑷鎳a(chǎn)化！與蘋果硬碰硬能否成功？

公平來說一看價格，二看兼容性。三看出貨量。

如果把華為愛國附加值加上。那可能蘋果希望不大。

關鍵是價格和應用性

能成功，只要堅持提升國產(chǎn)部件的質(zhì)量和性能，就一定能打敗蘋果，支持國貨。但在銷售時一定要標注清楚，讓消費者明明白白消費。

華為擁有光刻機嗎？

華為當然沒有光刻機，因為光刻機是從荷蘭的ASML公司生產(chǎn)的，但是這個光刻機并不是華為生產(chǎn)的，華為也沒有能力生產(chǎn)光刻機，目前高端光刻機就只掌握在ASML一家公司的手里，而且對我們有一定的限制，這也是為什么高通等公司能生產(chǎn)最高緊密度的芯片的原因，因為他們擁有最新的ASML的光刻機。

光刻機的英文稱謂為Mask Aligner。光刻機被稱之為芯片之母，光刻機的工作原理是把獲得的單一光源，通過技術手段最后形成一個點，聚光到硅晶圓上，最后在硅片上形成和電腦上的邏輯電路影像一樣的圖案，這個圖案的每個線路最小是在5納米左右。只有光刻機發(fā)出的光，才可以制作芯片。

所以光刻機是芯片制造的核心設備，光刻機的好壞決定了芯片的好壞，也是研發(fā)成本最高的半導體設備，現(xiàn)在掌握在荷蘭的ASML手里，比如他研發(fā)的光刻機光研發(fā)費用就高達200億美元。EUV光刻機的單價超過1億歐元（約8億元人民幣）。

目前我國芯片發(fā)展處于初期，華為有自己的麒麟芯片也是不錯的技術，但是還是比不高高通的芯片，還有十余年的差距。而高通也是依賴于ASML的光刻機的，由此可見，華為根本不可能去

研發(fā)ASML旗下的這些光刻機，也得不償失。華為的核心優(yōu)勢還是在消費電子領域。

雖然沒有光刻機，但是也不重要啊，全球化社會下本來就是整合全球的優(yōu)勢資源，現(xiàn)在華為整合了美國、日本等全球資源，才做出了這么好的手機，為什么要自己做光刻機呢？

華為最新發(fā)布的Mate 20 Pro價格高達8406元,你會買嗎？光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

目前光刻機分三個層次：

低端光刻機分辨率在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

中端光刻機有上海的SMEE的投影式光刻機。

高端光刻機分為步進投影和掃描投影兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。

手機芯片的制造使用的都是高端光刻機，芯片自造比較厲害的要數(shù)臺積電和三星。大家都知道，臺積電在沖擊5NM和3NM技術，最近荷蘭公司的大火，估計會延遲臺積電的研發(fā)進程。 知名品牌加工商，可能都是從荷蘭進貨，據(jù)說荷蘭是最牛的光刻機制造產(chǎn)地。

華為雖然自己研發(fā)芯片，走自主研發(fā)之路，但是制造手機芯片的光刻機器，目前華為仍然依賴進口。我記得新聞報道大陸想買，別人都不賣。華為的芯片制造也交給了臺積電，自己只負責設計芯片。也許在不久的將來，題主的這個愿望可以實現(xiàn)的。我們期待。