【簡介：】在過去的10年中，華為的研發(fā)投入共計3130億元人民幣。僅在2016年，華為的研發(fā)投入就有784億元人民幣。基本上每個年頭，華為都會把十分之一以上的年收入投向科研。到2016年末，華為
在過去的10年中，華為的研發(fā)投入共計3130億元人民幣。僅在2016年，華為的研發(fā)投入就有784億元人民幣。基本上每個年頭，華為都會把十分之一以上的年收入投向科研。到2016年末，華為在全球獲得的專利授權數(shù)量累計有62519件。其中，華為在中國的專利申請數(shù)量累計有57632件，在國外的專利申請數(shù)量累計有39613件。并且，華為在全球的專利申請總量中，有90%的專利申請為發(fā)明專利。華為現(xiàn)有研發(fā)人員8萬名左右，在華為的員工總數(shù)中占比差不多是一半。8萬名左右的研發(fā)人員遍布于全球。華為在全球共設有15個研發(fā)中心，如美國用戶體驗設計中心、倫敦設計中心、印度軟件研發(fā)中心和歐洲5G研發(fā)中心。華為在不同國家或地區(qū)先后設立起這些研發(fā)中心的目的之一，就是為了吸引全球最優(yōu)秀的人才進入華為。再有，華為的創(chuàng)新研究計劃已經(jīng)資助了1200多個研究項目，該計劃覆蓋20多個國家，300多所高校，2名諾貝爾獎獲得者，100多名IEEE和ACM院士，以及國內(nèi)外數(shù)千名專家學者的參與。
于是，華為的科研實力強嗎？顯然，華為的科研實力不僅強，而且是很強。既然華為有著很強的科研實力，卻為什么研發(fā)不出光刻機？事實上，到目前為止，華為也并沒有想過要去研發(fā)光刻機。那為什么華為未曾想過要去研發(fā)光刻機？這道理人人都該懂的。華為在通信行業(yè)中歷經(jīng)30年的拼搏，好不容易才在該行業(yè)中成了數(shù)一數(shù)二的大型廠商。光刻機是什么？光刻機是一種半導體生產(chǎn)設備，特別是被廠商用于芯片制造的光刻機，所包含的（工藝）技術可謂十分的復雜且高難。雖然一臺光刻機的售價可以高達數(shù)千萬美元，甚至上億美元，但是華為突然從通信行業(yè)跨入到半導體設備行業(yè)，進而自主研發(fā)光刻機，無異于是在冒一次天大的險（得不嘗失）。就算華為經(jīng)受住了各種風險，集全力研發(fā)光刻機，也不見得華為最終能研發(fā)出比荷蘭ASML更好的光刻機來?；蛘哒f，華為若要研發(fā)光刻機，理當要全面超過ASML，從而取代ASML在行業(yè)中的地位和作用。之后，華為不僅要能為英特爾、三星和臺積電等半導體廠商提供業(yè)界最先進的設備，還要能為英特爾、三星和臺積電等廠商提供行內(nèi)最好的技術解決（個性化）方案。否則，華為便很可能步日本尼康和佳能的后塵。
在半導體行業(yè)中，前兩大半導體廠商即是英特爾和三星。英特爾和三星還有個共同點是，兩者都算得上是全能型半導體廠商。到了今天，人們都還沒有親耳聽到，親眼見到英特爾或者三星要自主研發(fā)光刻機。近幾年里，蘋果每年的收入都在2000億美元之上，凈利潤也是多到數(shù)百億美元?？墒?，蘋果至今未曾有過自主研發(fā)光刻機的念頭。除了英特爾、三星和蘋果外，全球還有很多企業(yè)同樣是有著很大的體量，有著很強的科研實力，這些企業(yè)亦都沒敢跨入到半導體設備行業(yè)，并自主研發(fā)光刻機。換言之，華為若在通信行業(yè)中干到極致，那便會是一家深受人們尊敬的超大型高科技企業(yè)。況且，華為在目前的產(chǎn)品線已然是相當?shù)呢S富，業(yè)務范圍已然是相當?shù)膹V。這就好比，不同的人，有著不同的專長技能和天賦，每個人都應該在各自的行業(yè)中盡可能地揚長避短，才有可能取得事業(yè)上的成功。中國前人們早已講出一個道理、“聞道有先后，術業(yè)有專攻”。
在國內(nèi)，之前有位專業(yè)人士在網(wǎng)上發(fā)表過自己的看法，“芯片制造是整個IT行業(yè)的基礎，OS的設計實踐與芯片息息相關，如果一國之IT行業(yè)有高端芯片制造能力，必然在發(fā)展過程中有足夠的機會形成底層軟件的研發(fā)能力”。該專業(yè)人士進一步指出，“所以對于一國之IT產(chǎn)業(yè)而言，如果芯片制造工藝不行，相當于發(fā)動機造不出來，技術自然備受限制，高超不到哪里去”。上文已經(jīng)說到，華為幾乎不可能投入大量的資源自主研發(fā)光刻機，而國內(nèi)科研機構卻可以，也應該對光刻機展開探索和研發(fā)，以便全方位地掌握光刻機的制造原理和核心技術。
光刻機的英文稱謂為Mask Aligner。從狹義上講，光刻技術的大意是，廠商運用光化學等原理和一整套的方法，把掩模版上的設計圖形“復制”到硅晶圓等基板上的工藝技術，該原理與照相有些相似，即硅晶圓片與光刻膠大體相當于是照相底片與感光涂層。光刻機是廠商用于芯片制造的核心設備之一，也是技術難度最高，單臺研制成本最高的半導體設備。有媒體報道過，ASML等廠商為了研發(fā)出商用的極紫外光刻機（EUV光刻機），且不說之前用了太長的時間，前前后后花費掉的資金便已高達200億美元左右。
華為當然沒有光刻機，因為光刻機是從荷蘭的ASML公司生產(chǎn)的，但是這個光刻機并不是華為生產(chǎn)的，華為也沒有能力生產(chǎn)光刻機，目前高端光刻機就只掌握在ASML一家公司的手里，而且對我們有一定的限制，這也是為什么高通等公司能生產(chǎn)最高緊密度的芯片的原因，因為他們擁有最新的ASML的光刻機。
光刻機的英文稱謂為Mask Aligner。光刻機被稱之為芯片之母，光刻機的工作原理是把獲得的單一光源，通過技術手段最后形成一個點，聚光到硅晶圓上，最后在硅片上形成和電腦上的邏輯電路影像一樣的圖案，這個圖案的每個線路最小是在5納米左右。只有光刻機發(fā)出的光，才可以制作芯片。
所以光刻機是芯片制造的核心設備，光刻機的好壞決定了芯片的好壞，也是研發(fā)成本最高的半導體設備，現(xiàn)在掌握在荷蘭的ASML手里，比如他研發(fā)的光刻機光研發(fā)費用就高達200億美元。EUV光刻機的單價超過1億歐元（約8億元人民幣）。
目前我國芯片發(fā)展處于初期，華為有自己的麒麟芯片也是不錯的技術，但是還是比不高高通的芯片，還有十余年的差距。而高通也是依賴于ASML的光刻機的，由此可見，華為根本不可能去
研發(fā)ASML旗下的這些光刻機，也得不償失。華為的核心優(yōu)勢還是在消費電子領域。
雖然沒有光刻機，但是也不重要啊，全球化社會下本來就是整合全球的優(yōu)勢資源，現(xiàn)在華為整合了美國、日本等全球資源，才做出了這么好的手機，為什么要自己做光刻機呢？
華為最新發(fā)布的Mate 20 Pro價格高達8406元,你會買嗎？
